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光刻機國產化又進一步!國產光刻機指日可待

作者:由 小炎數碼生活 發表于 收藏日期:2023-02-07

光學元件圖紙q是什麼意思

光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等,是生產大規模積體電路的核心裝置。因其重要性與製造和維護需要高度的光學和電子工業基礎,目前世界上只有少部分廠家掌握,分別是:荷蘭ASML公司、尼康、佳能、歐泰克、上海微電子裝備、SUSS、ABM, Inc。

雖然我國上海微電子裝置公司也在其列,但只能生產投影式中端光刻機。

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根據世界科技程序,想要實現國產化光刻機,必須研製出7nm及以下製程的晶片,而想要研製7nm及以下的光刻機就必須是EUV光刻機。ASML公司曾在發言中諷刺: 中國人即便是得到了EUV光刻機圖紙,也造不出來。AMSL公司製造的EUV光刻機,所需元器件超10萬,需要來自不同的35個國家5000多家企業,可見光刻機制造險阻之多。

光刻機國產化又進一步!國產光刻機指日可待

在我國不斷加大投入與各企業科研團隊的努力下, 我國陸續掌握了雙工件臺和EUV光源系統等關鍵技術。除此之外北京大學電子顯微鏡實驗室高鵬研究員研究組成功掌握了掃描透射電子顯微鏡技術。與傳統的譜學手段相比,更具準確性、靈活性,未來的發展空間更大。這也證明了我國研製光鏡製程技術精度更高!

除了這一好訊息外,香港城市大學電機工程系教授蔡定平團隊近期一項工作的研究,其研發出一款新型真空紫外光超構透鏡,可用於半導體制作、光化學、材料科學等,所產生的聚焦真空紫外光源,也能廣泛用於微納光刻等高階工業領域。未來延伸到更短波長之後,可用於光刻機。

光刻機國產化又進一步!國產光刻機指日可待

無論是華為的5G技術,麒麟晶片,還是各廠商自研的種種功能性晶片。都一步一步向前邁去,任何人、國家都阻止不了我國科研團隊及企業的決心。相信在不遠的明天我國高階光刻機就會問世。

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