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近日美國晶片企業美光成功研發出繞開EUV光刻機的1β製造工藝，顯示出全球晶片行業突然興起了一股繞開光刻機的風潮，這讓光刻機巨頭ASML一臉懵逼，為何突然間都在研發擺脫EUV光刻機的工藝了？
此前日本企業已經研發出無需光刻機的NIL工藝，該工藝已被日本儲存晶片企業鎧俠採用，近期NIL工藝已突破10nm，預計最終可以演進到5nm，證明了無需光刻機工藝是有可能實現的。
由於眾所周知的原因，中國大陸難以獲得ASML的EUV光刻機，中國大陸不得不研發無需EUV光刻機的工藝，日本的NIL工藝為中國提供了啟發，而且近期中國招標光刻機的時候也將大部分訂單給予日本光刻機，或許中國可望因此加快研發無需EUV光刻機的工藝進度。
美國晶片企業當然沒有獲取的EUV光刻機的困難，但是美光科技竟然也研發了無需EUV光刻機的工藝，業界人士認為這可能是因為EUV光刻機的成本太高了，一臺EUV光刻機的價格是DUV光刻機的數倍，而且耗電量也大增，導致成本大幅上漲，因此美光科技研發繞開EUV光刻機的1β製造工藝。
美國晶片裝置行業對ASML的威脅還不止於此，早前美國晶片裝置企業Zyvex Labs開發了新的工藝裝置，可以達到0。768nm，打破了ASML的EUV光刻機的1nm極限，這對於ASML更是致命威脅。
ASML的主要業務就是光刻機，而EUV光刻機更是ASML的主要利潤來源，至今只有ASML能生產EUV光刻機，依靠EUV光刻機的技術優勢，ASML已在研發更先進的第二代EUV光刻機，預計在2024年推出。
當前7nm以及更先進的工藝都需要EUV光刻機，此前由於EUV光刻機的產能有限，即使EUV光刻機價格昂貴，Intel、三星和臺積電都爭搶EUV光刻機，誰能搶到就能獲得更多的市場，然而今年以來全球晶片行業形勢突變。
上半年全球晶片行業出現供給過剩，到了下半年晶片供給過剩日益嚴重，到近期臺積電已關閉部分EUV光刻機，同時臺積電的3nm工藝由於沒有客戶沒有量產；三星量產了3nm工藝，卻也被質疑沒有客戶，這都導致晶片製造企業對於EUV光刻機的態度冷淡，ASML寄望更先進的第二代EUV光刻機可以帶來新的收入。
然而如今日本和美國企業都繞開了EUV光刻機，中國市場需要EUV光刻機，ASML卻又因眾所周知的原因無法對中國出售；美國企業研發更先進的工藝，打破了ASML第二代EUV光刻機所瞄準的2nm以及1。8nm極限，這更是斷了ASML的生路。
或許到了這個時候，ASML才幡然醒悟，順從美國的結果卻是被美國挖了它的命根，ASML的前途一片黯淡，此時它或許真的後悔當初遵從美國的要求，而美國卻絲毫不在乎它的死活，事實一再證明美國一切做法都是為了美國企業的利益，對於ASML這些非美企業只有一再的操弄。