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EUV光刻機，如鯁在喉，讓我們的半導體制造業過得非常難受。聚集西方高階先進技術，用數十萬零件才能組建而成的EUV光刻機，是半導體制造業的頂峰技術，也是高階製程晶片的搖籃。這導致在高階智慧手機，超級計算等領域，如果我們沒有EUV光刻機，就難以有所進展。
林本堅，創造改變光刻機產業格局的技術
EUV光刻機，世界上只有一家能夠生產，那就是ASML。但ASML在光刻機發展歷史上，並不一直處於領先位置，最早的時候，其是被日本的尼康、佳能給按在地上摩擦的。
直到ASML開始使用浸入式光刻技術，才慢慢實現反超，最終奠定光刻機之王的地位。
很多人不知道的是，這個助力ASML登頂的“浸入式光刻技術”，其實是華人開創的。這個華人名叫林本堅，曾在IBM工作20年，是半導體行業的大拿。2000年，他加入臺積電，兩年後，研發出“浸潤式微影技術”。
正是這項技術，打破了乾式光刻機壟斷市場的局面，徹底改寫了光刻機產業的格局。
尼康們的恐慌
在2002年的一場晶片研討會上，林本堅受邀講解上臺演講。那一天，他提出了用水作為浸潤式液體，可以幫助光刻機光源波長從193nm推進到132nm。要知道，那時候的尼康和佳能們正被157nm所困擾，結果林本堅卻直接告訴他們可以直接跳過157nm，到更先進一代，可想而知他們有多震驚。
但震驚之後，尼康們所想的不是擁抱新技術，而是“排斥”。因為當時尼康們的底蘊全部來自於乾式光刻機，他們如果從浸潤式重新起步，那等於是在放棄自己長久以來建立的產業優勢以及在乾式光刻技術上投入的重金。顯然，那會的尼康們還沒有這樣的魄力。
雖然新技術讓尼康們感到恐慌，但是後來者的ASML和臺積電卻大膽邁出了第一步。2003年，臺積電和ASML合作，世界上第一臺浸潤式光刻機隨之誕生。很快，浸潤式光刻機就憑藉自己的優勢吊打乾式光刻機。
尼康們的恐慌終於變成了真實的失敗，ASML憑藉開始掌握行業優勢，最終打造出EUV光刻機，優勢成勝勢。
臺積電的領先
因為最早抓住浸潤式光刻技術的機遇，臺積電也從55nm開始，連續將摩爾定律的進展向前推進了7代，直到如今的5nm，3nm。如果沒有林本堅，臺積電不可能成為晶圓代工的老大，ASML也不可能成為EUV光刻機的獨家代言企業。
2015年的時候，林本堅從臺積電退休。張忠謀感慨萬千，在晚會上對著林本堅說道：如果沒有你（林本堅），臺積電的微影（光刻技術）不會有今天這樣的水平。
半導體產業，華人的力量
除了林本堅之外，在半導體產業，其實是華人撐起了半邊天。比如說加州大學伯克利分校胡正明教授，FinFETch工藝的創始人，突破了晶片20nm製程；曾經在德州儀器工作，後來創建臺積電的張忠謀，英偉達黃仁勳，AMD蘇姿豐等等。
炎黃子孫的力量從來不遜於任何人，華人已經證明了我們有足夠的聰明才智在半導體產業攪動風雲。相信未來，我們一定能夠突破EUV光刻機的限制，真正實現晶片自主。