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為第三代半導體的崛起“添磚加瓦”,第三代下壓老化座!

作者:由 ICsocketgirl 發表于 曲藝日期:2023-01-04

6h型碳化矽晶體最高耐溫多少度

與傳統矽基裝置相比,第三代半導體材料製備的半導體裝置不僅體積小,重量輕,而且功率輸出密度高,能量轉換效率高,可顯著提高系統裝置的效能。

還具有大電流、大電壓的特點,常見用於新能源車規晶片和

5G

運用等,與之匹配的第三代半導體晶片老化測試的特點

-

自動化測試(

ATE

測試)

-

下壓老化座應運而生。

為第三代半導體的崛起“添磚加瓦”,第三代下壓老化座!

半導體晶片測試

第三代半導體

1、

發展迅速,

GaN

SiC

功率器件

(均有對應的老化座、測試座)

逐漸開始大規模應用。與傳統的矽襯底相比,第三代化合物半導體具有頻寬大、穿透電場強度高、電子遷移率高、導熱率高、介質常數小、抗輻射能力強等特點。因此,由第三代化合物半導體制程的功率裝置具有較高的效能和效率。第三代半導體在射頻和功率方面具有明顯的應用前景。由於生產規模相對較小,生產技術需要成熟,產品價格相對較高,價效比較低,應用受到很大限制。

2

更適合製造高溫、高頻、抗輻射和大功率裝置。與矽基半導體相比,第三代半導體材料具有更寬的禁頻寬度、更高的導熱性和更高的抗輻射性,特別是在汽車電子、快速充電和新能源領域。

3

主要是寬頻半導體原料,如氮化鎵、碳化矽和硒化鋅。更適合製造耐高溫、耐高壓、耐大電流的高頻大功率器件

(功率器件測試座

/

老化座

。據報道,

國家

計劃大力支援第三代半導體產業的發展

“十四五”在規劃教育、科研、開發、融資、應用等方面為第三代半導體的發展提供了廣泛的支援。以實現產業獨立。

為第三代半導體的崛起“添磚加瓦”,第三代下壓老化座!

半導體晶片測試

特點:

SiC

第三代半導體材料是繼矽材料之後最有前途的半導體材料之一。與矽材料相比,由碳化矽晶片製成的半導體器件具有高功率、耐高壓、耐高溫、高頻、能耗低、抗輻射能力強等優點,可廣泛應用於新能源汽車

(高溫老化座、高頻測試座)

5G

現代工業領域,如通訊、光伏發電、軌道交通、智慧電網、航空航天等,需求迅速增長。第三代半導體產業是中國“新基建”戰略的重要組成部分,有望引發科技改革,重塑國際半導體產業格局。

碳化矽與矽相比(

SiC

)和氮化鎵(

GaN

)第三代半導體具有效率高、能耗低、散熱快等特點。第三代半導體裝置可提供高壓、高速開關和低導電阻。鑑於該特性,其將成為有助於降低能耗和縮小系統尺寸的下一代低損耗器件。

為第三代半導體的崛起“添磚加瓦”,第三代下壓老化座!

半導體晶片測試

趨勢:

目前國家晶片發展的趨勢主要集中在大而厚的主控類晶片

+flash+第三代半導體

在鴻怡電子第三代半導體測試座的眾多行業運用過程中,整理了

3

個系列的封裝老化測試座案例,僅供參考,歡迎留言討論:

1、

TO

封裝系列:

TO247

TO252

TO263

TO 250

測試座

/

老化座

2、

QFN

封裝系列:

QFN5*6

QFN8*8

QFN8*11。2

QFN 3。2*3。2

QFN2*3

測試座

/

老化座

3、

IGBT

IPM

DSC

系列功率器件、高溫、高頻測試座

/

老化座