有誰用過炮機好用嗎
由於半導體生產是流程複雜、工藝多，且用水量多，其產生的半導體廢水則是廢水量大、汙染物很多、濃度高等特點的工業廢水。
（1）半導體廢水採取分質分系統預處理是非常重要的，不同工藝產生的廢水水質差別非常大，比如有含氟廢水、含磷廢水、含氨廢水、含銅廢水等，如果採取混合一起處理，不僅加大了處理難度（交叉感染等），而且忽略了混合後的汙染物濃度問題，不利於更精細化處理。
半導體生產， 圖片來源於網路
（2）預處理工藝一般以物理化學法為主，其中化學沉澱法是使用較多的方法，可以根據廢水的汙染物不同採取不同的化學藥劑，進而做到將其沉澱去除。
例如含氟廢水是採用CaCl2做為其的化學藥劑，使氟離子形成CaF2沉澱，與絮凝沉澱的方法（PAC、PAM等）使沉澱形成礬花，在沉澱池當中進行固液分離，達到比較理想的除氟效果。
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（3）半導體廢水會有排放出高濃度氨氮廢水，而處理高濃度氨氮廢水的工藝為氧化法、吹脫法、生物法等。某企業採用的是兩級吹脫的方式，將氨氮濃度超過1000mg/L的廢水做到達標排放。
吹脫法脫除水中氨氮，是利用NH4+和NH3之間的動態平衡，在鹼性條件下將氣體通入水中，使氣液相互充分接觸，同時水中溶解的遊離氨穿過氣液介面，向氣相轉移，從而達到去除氨氮的目的。影響吹脫效率的主要因素有：pH值、水溫、布水負荷、氣液比、足夠的氣液分離空間。
（4）厭氧→缺氧→好氧（A2/O）工藝不僅是去除可以去除有機物的方法，而且具有很好的脫氮除磷效果，可以用在處理半導體廢水中的有機廢水。這三個池子功能會有所不同，且停留時間根據時間情況設計，厭氧主要是釋放磷，同時對有機物進行部分氨化；缺氧池主要是用來脫氮的；好氧池能夠去除BOD還能進行消化和吸收磷。